Pembersih Plasma Vakum ICP Atas Meja Kebuk Kuarza 2.5L untuk Penyelidikan Makmal

Pengenalan Produk

HY-EB03H Pembersih Plasma Vakum ICP Atas Meja Kebuk Kuarza 2.5L ialah sistem rawatan permukaan plasma padat yang disesuaikan untuk makmal penyelidikan universiti, pusat R&D perusahaan dan pengeluaran rintis berskala kecil. Dilengkapi dengan ruang pemprosesan kaca kuarza silinder, sistem lengkap ini terdiri daripada penjana plasma RF, pam vakum dan dua port masuk & keluar gas bebas. Dengan mengguna pakai teknologi plasma gandingan induktif ICP, ia boleh menghasilkan plasma berketumpatan tinggi yang seragam secara stabil.

Peralatan ini berkesan meningkatkan lekatan permukaan substrat dan mengoptimumkan hidrofilik permukaan, dan digunakan secara meluas untuk ikatan cip mikrofluidik PDMS, salutan bahan, pemendapan filem nipis, pelucutan fotoresis dan pelbagai proses pengubahsuaian permukaan bahan.

Aplikasi Produk

Ciri-ciri Produk

1. Ruang vakum diperbuat daripada kaca kuarza, mudah dibersihkan dan bebas daripada pencemaran terhadap sampel ujian.

2. Dilengkapi dengan penjana plasma RF keadaan pepejal 13.56MHz dengan penalaan padanan impedans automatik, memberikan kestabilan dan kebolehulangan yang sangat baik.

3. Panel operasi menggunakan reka bentuk ergonomik condong 30° untuk operasi yang mudah dan antara muka mesra pengguna.

4. Dua saluran gas bebas yang dilengkapi dengan pengawal aliran jisim membolehkan penetapan dan pengawalaturan kadar aliran gas yang tepat, memudahkan penyelidikan tentang bagaimana nisbah gas yang berbeza mempengaruhi hasil rawatan.

5. Teknologi penjanaan plasma bergandingan secara induktif ICP menghasilkan plasma berketumpatan tinggi.

Lukisan Garis Besar Mesin dan Gambarajah Kebuk Vakum

 

 

Spesifikasi Teknikal

 

Tidak.	Barang	Spesifikasi.	Parameter
1	Penjana Plasma	Output Kuasa Keadaan Pepejal	0–15W boleh laras berterusan, output gelombang sinus standard, kestabilan ≤±0.5%; dengan perlindungan voltan lampau, arus lampau, suhu lampau dan kuasa pantulan
		Frekuensi Operasi	Bekalan kuasa RF keadaan pepejal 13.56 MHz
		Padanan Impedans	Pemadanan automatik berkelajuan tinggi dalam masa 0.1 saat, menyokong komunikasi rangkaian
2	Dewan Reaksi Vakum	Bahan Ruang	Kaca kuarza tahan haba
		Isipadu Ruang	2.5L
		Dulang Sampel	Dulang kaca selari
		Dimensi Dewan Silinder	Φ105×300 (D) mm
3	Kawalan Laluan Gas	Pengawal Aliran Jisim	300 SCCM
		Saluran Gas	2 talian gas bebas, serasi dengan O₂, Ar, N₂, H₂, dsb.
			Sila maklumkan kepada kami terlebih dahulu jika gas menghakis diperlukan
4	Pengukuran Vakum	Sistem Pengukuran Vakum	Julat pengukuran: 5×10⁻² ~ 1.0×10⁵ Pa
			Ketepatan pengukuran: 1 Pa
5	Sistem Pam	Pam Vakum	8 m³/J
6	Sistem Kawalan	Skrin Sentuh	7 inci
		Item Pemantauan Masa Nyata	Kuasa output, aras vakum, aliran gas, masa pemprosesan, dsb.
		Mod Kawalan	Kawalan PLC
		Perisian Kawalan	Sistem kawalan plasma berpaten yang dibangunkan sendiri dengan autoriti akses 3 peringkat; mod auto & manual, tetapan parameter resipi, penyimpanan & penarikan balik, pertanyaan sejarah penggera, pemantauan isyarat IO
		Fungsi Perlindungan Penggera	Penggera perlindungan vakum, penggera perlindungan nyahcas cahaya, penggera perlindungan kuasa
		Fungsi Pengimbangan Tekanan	Menyokong salur masuk gas proses untuk penyamaan tekanan, tempoh keseimbangan boleh laras
7	Syarat-syarat Operasi Tapak	Bekalan Kuasa	220V±10% 50/60Hz 9A
		Pemasangan Paip Gas	Port berdiameter 6mm
		Ketulenan Gas yang Diperlukan	99.99%
		Tekanan Gas Masuk	0.4–0.6 MPa
		Pelabuhan Ekzos	Antara muka bebibir KF25
8	Parameter Mesin Keseluruhan	Jumlah Kuasa Mesin	≤ 2 kW
		Dimensi Luar Keseluruhan	551.5mm(P) × 480mm(L) × 546.5mm(T)

 

Persekitaran Operasi (Item yang Perlu Disediakan oleh Pelanggan)

 

Tidak.	Barang	Keperluan
1	Bekalan Kuasa & Penarafan Kuasa	Grid input: 220V, 50/60Hz, turun naik grid yang dibenarkan ±10%; wayar pembumian kuasa hendaklah memenuhi piawaian antarabangsa. Tiada gangguan elektromagnet yang kuat di sekitar kawasan pemasangan peralatan.
2	Persekitaran Pemasangan	Suhu ambien: 0–40°C; Kelembapan relatif: 15%–60%
3	Penyediaan Sumber Gas	Silinder gas untuk O₂, Ar, N₂, H₂, dsb. (mesti dilengkapi dengan injap pengurang tekanan). Tekanan gas masuk ＞0.3 MPa; diameter port paip gas: Φ6mm
4	Saluran Ekzos	Sambungkan ke port ekzos pam vakum (wajib untuk kegunaan bilik bersih)