Mesin Pembersih Plasma

Unit rawatan ICP atas meja HY-EB03H 2.5L ialah peralatan rawatan permukaan plasma makmal padat dengan kuasa RF 13.56MHz dan saluran gas berganda. Ia menghasilkan plasma ICP berketumpatan tinggi untuk membersihkan, mengaktifkan, mengetsa dan mengikat bahan, dan digunakan secara meluas untuk mikrofluidik PDMS, abu fotoresis dan penyelidikan makmal semikonduktor. 

HY-AD03 adalah langsung atmosfera Peranti pembersih plasma yang direka untuk pembersihan, pengaktifan dan pengubahsuaian permukaan di bawah keadaan udara ambien. Ia mempunyai tenaga pekat dengan jejak rawatan yang kecil, yang berkesan meningkatkan lekatan produk, hidrofilik dan kebolehcetakan. Ia juga boleh membuang bahan cemar seperti sisa organik, kesan minyak dan lapisan oksida daripada permukaan bahan.

HY-AC500 menggunakan pistol semburan plasma berputar dan mod kawalan manual & I/O berganda, merealisasikan pembersihan, pengaktifan dan pengetsaan mikro yang seragam untuk cip PCB, FPC, BGA dan semikonduktor. Ia mempunyai perkakasan gred tentera, pemantauan masa nyata digital dan perlindungan keselamatan berbilang lapisan. Mesin plasma analog desktop 1000W ini digunakan secara meluas untuk pra-rawatan dalam industri pembungkusan semikonduktor, elektronik 3C, paparan, elektronik automotif dan tenaga baharu.